制藥廠惡臭廢氣處理工藝

 

制藥廠在生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生大量的有機廢氣，廢氣味道很大，不僅污染環(huán)境，而且危害員工健康。廢氣成分包括三乙胺、亞磷酸三乙酯、乙腈、二氯甲烷等。因此，有必要對制藥惡臭廢氣進行處理。決定選擇光催化除臭工藝。

 

制藥廠惡臭廢氣的處理工藝；

 

制藥產(chǎn)生的有機廢氣通過排氣設(shè)備輸入uv光催化除臭設(shè)備，凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。

 

光催化除臭設(shè)備的工作原理；

 

本產(chǎn)品采用特殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進行光催化，催化裂解惡臭氣體如氮氣、三甲胺、硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉(zhuǎn)化為CO2等低分子化合物。

 

二氧化鈦的光催化活性在很大程度上影響光催化反應(yīng)速率，而二氧化鈦的光催化活性主要受二氧化鈦的晶型和粒徑的影響。銳鈦礦型二氧化鈦具有高催化活性。隨著粒徑的減小，電子和空穴簡單復合的幾率降低，光催化活性增加。此外，孔隙率、平均孔徑、顆粒表面狀態(tài)、純度等。對其光催化活性也有一定影響。為了提高光降解效率，對二氧化鈦光催化劑進行了改性，如制備納米二氧化鈦、制備二氧化鈦復合半導體、摻雜金屬離子、敏化染料等。二氧化鈦催化劑也可以通過各種先進的手段來制備，以提高光催化劑的活性。

 

空氣中的氧分子被高能臭氧紫外光束分解，產(chǎn)生游離氧，即活性氧。由于自由氧攜帶的正負電子不平衡，氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。UV+O2→o-+o*(活性氧)o+O2→O3(臭氧)。眾所周知，臭氧對有機物有很強的氧化作用，對惡臭氣體和其他刺激性氣味有立即去除作用。

 

利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，然后利用臭氧進行氧化反應(yīng)，從而完全達到除臭殺菌的目的。

 

光催化光解廢氣凈化器又稱紫外線除臭設(shè)備、光電離子廢氣凈化設(shè)備、光解催化氧化廢氣凈化設(shè)備等。它是一種能高效、快速去除揮發(fā)性有機化合物(VOC)、無機物、硫化氫、氨、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設(shè)備。除臭效果更好，除臭效果大大超過國家惡臭污染物排放標準(GB14554-93)。

 

UV光催化除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種有污染源的惡臭氣體的除臭凈化，如油漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑料廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、煙草廢氣處理、鑄造廢氣處理等。